Ffilm Thin SiO2 Thermal Ocsid Silicon Wafer 4 modfedd 6 modfedd 8 modfedd 12 modfedd

Mae'r brif broses o weithgynhyrchu wafferi silicon ocsidiedig fel arfer yn cynnwys y camau canlynol: twf silicon monocrystalline, torri i mewn i wafferi, caboli, glanhau ac ocsideiddio.

Twf silicon monocrystalline: Yn gyntaf, tyfir silicon monocrystalline ar dymheredd uchel trwy ddulliau megis y dull Czochralski neu'r dull Parth-Float.Mae'r dull hwn yn galluogi paratoi crisialau sengl silicon gyda phurdeb uchel a chywirdeb dellt.

Deisio: Mae'r silicon monocrystalline a dyfir fel arfer mewn siâp silindrog ac mae angen ei dorri'n wafferi tenau i'w ddefnyddio fel swbstrad wafferi.Fel arfer gwneir torri gyda thorrwr diemwnt.

sgleinio: Gall wyneb y wafer torri fod yn anwastad ac mae angen sgleinio cemegol-mecanyddol i gael wyneb llyfn.

Glanhau: Mae'r wafer caboledig yn cael ei lanhau i gael gwared ar amhureddau a llwch.

Ocsideiddio: Yn olaf, mae'r wafferi silicon yn cael eu rhoi mewn ffwrnais tymheredd uchel ar gyfer triniaeth ocsideiddio i ffurfio haen amddiffynnol o silicon deuocsid i wella ei briodweddau trydanol a'i gryfder mecanyddol, yn ogystal â gwasanaethu fel haen inswleiddio mewn cylchedau integredig.

Mae prif ddefnyddiau wafferi silicon ocsidiedig yn cynnwys cynhyrchu cylchedau integredig, cynhyrchu celloedd solar, a gweithgynhyrchu dyfeisiau electronig eraill.Defnyddir wafferi silicon ocsid yn eang ym maes deunyddiau lled-ddargludyddion oherwydd eu priodweddau mecanyddol rhagorol, sefydlogrwydd dimensiwn a chemegol, gallu i weithredu ar dymheredd uchel a phwysau uchel, yn ogystal ag insiwleiddio da ac eiddo optegol.

Mae ei fanteision yn cynnwys strwythur crisial cyflawn, cyfansoddiad cemegol pur, dimensiynau manwl gywir, priodweddau mecanyddol da, ac ati. Mae'r nodweddion hyn yn gwneud wafferi silicon ocsid yn arbennig o addas ar gyfer cynhyrchu cylchedau integredig perfformiad uchel a dyfeisiau microelectroneg eraill.